設備特點：

適用于最大6英寸晶圓，并向下兼容4英寸、2英寸晶圓以及不規則碎片
6英寸樣品范圍內薄膜厚度均勻性優于± 3%
鍍膜腔極限真空度優于5x10-9 Torr
樣品水冷功能

工作原理:

超高真空剝離工藝是一種基于物理氣相沉積 (PVD)技術的專門工藝設備,它在真空下利用電子束直接加熱蒸發材料(通常是顆粒)，并將蒸發的材料輸送到基板上形成一個薄膜。樣品臺需要具備特殊的水冷功能，確保在工藝過程中襯底保持在較低溫度，不會導致光刻膠的碳化，從而順利進行后續的光刻膠剝離工藝。

腔體設計:

腔體材質：SUS304L不銹鋼

腔體尺寸：約580 (D) mm × 900 (H) mm
CF100真空觀察窗（帶獨立擋板）× 2
CF200維護口 × 2，一上一下可轉接成O-ring ISO 160快開門，方便換材料及QCM；
O-ring ISO 160快開門 × 2
腔體烘烤夾克 150℃ × 1；

鍍膜T/S距離≥ 600 mm；

電子槍系統:

Telemark 的電子槍
蒸鍍源型式:坩鍋
電源供應：6 kW
6個坩鍋選擇
坩鍋容量15cc
發射電流調制穩定性±0.5%
高壓線性調節范圍6 to 8 kV
電流短路于100 毫秒內恢復
最大電流750 mA

快速進樣腔:

腔體尺寸：約300 (D) mm × 250 (H) mm；

腔體材質：Al 6061；
上開式腔門 × 1；
真空觀察窗 × 1；

自動樣品傳輸桿 x 1;

控制系統:

控制系統是直覺式圖形作業系統，提供了大量的功能，建立客戶制程應用程序。真空系統軟件提供了分權管理，過程控制，數據的基礎環節，遠程監控與閥門聯鎖裝置。同時軟件包括圖表和圖形控制為您顯示來自數據采集、裝置采集的波形。

包含項目：
接口管理
自動過程控制
數據記錄和歷史搜索
多層鍍膜設定
趨勢繪圖
安全聯鎖裝置和警報